年产 1000 吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度 99.996%)

Azot Tri fl uorid ），化学式 NF3 ，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剂使⽤。

Azot tri fl uorid, himiki formula NF3, güýçli oksidleýji serişdedir. Möhüm senagat ýörite gazy hökmünde, köp sanly amaly bar.
Mikroelektronika pudagynda azot tri fl uorid ajaýyp plazma gazydyr; Panelarymgeçiriji çipde panel paneliň ekranynda, optiki, ber, fotoelektrik öýjükleri we beýleki önümçilik enjamlarynda azot üçburçlygy esasan plazma çykaryjy gaz we reaksiýa boşlugyny arassalaýjy serişde hökmünde ulanylýar.
Şeýle hem, bir bada köp mukdarda ýylylyk çykarmak üçin wodorod bilen reaksiýa bermek arkaly ýokary energiýa himiki lazerlerde ulanylyp bilner. Azot üçburçlygy ýokary energiýa ýangyjy we raketa atyşlarynda oksidleýji we hereketlendiriji hökmünde hem ulanylýar.